產(chǎn)品分類
HFCVD 熱絲化學(xué)氣相沉積設(shè)備
研發(fā)設(shè)計(jì)制造了熱絲CVD金剛石設(shè)備，分為實(shí)驗(yàn)型設(shè)備和生產(chǎn)型設(shè)備兩類。 設(shè)備主要用于微米晶和納米晶金剛石薄膜的研發(fā)和生產(chǎn)。可用于力學(xué)級(jí)別、熱學(xué)級(jí)別、光學(xué)級(jí)別、聲學(xué)級(jí)別的金剛石產(chǎn)品的研發(fā)生產(chǎn)。 可以制造大尺寸金剛石多晶晶圓片，用于大功率器件、高頻器件及大功率激光器的散熱熱沉。
- 產(chǎn)品描述
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研發(fā)設(shè)計(jì)制造了熱絲CVD金剛石設(shè)備，分為實(shí)驗(yàn)型設(shè)備和生產(chǎn)型設(shè)備兩類。
設(shè)備主要用于微米晶和納米晶金剛石薄膜的研發(fā)和生產(chǎn)。可用于力學(xué)級(jí)別、熱學(xué)級(jí)別、光學(xué)級(jí)別、聲學(xué)級(jí)別的金剛石產(chǎn)品的研發(fā)生產(chǎn)。
可以制造大尺寸金剛石多晶晶圓片，用于大功率器件、高頻器件及大功率激光器的散熱熱沉。
可用于生產(chǎn)制造防腐耐磨硬質(zhì)涂層；環(huán)保領(lǐng)域污水處理用的金剛石產(chǎn)品。
可用于平面工件的金剛石薄膜制備，也可用于刀具表面或其它不規(guī)則表面的金剛石硬質(zhì)涂層制備。
可用于太陽能薄膜電池的研發(fā)與生產(chǎn)。工件尺寸
圓形平面工作的尺寸：最大φ600mm。
矩形工作尺寸的寬度1000mm/長度可根據(jù)鍍膜室的長度確定（如：工件長度1500mm）。
配置水冷樣品臺(tái)。
可單面鍍膜也可雙面鍍膜。
金剛石薄膜生產(chǎn)線
熱絲電源功率
可達(dá)300KW，1KW～300KW可調(diào)（可根據(jù)用戶工藝需求配置功率范圍）
設(shè)備安全性
- 電力系統(tǒng)的檢測與保護(hù)
- 設(shè)置真空檢測與報(bào)警保護(hù)功能
- 冷卻循環(huán)水系統(tǒng)壓力檢測和流量檢測與報(bào)警保護(hù)
- 設(shè)置水壓檢測與報(bào)警保護(hù)裝置
- 設(shè)置水流檢測報(bào)警裝置
熱絲CVD金剛石設(shè)備
設(shè)備構(gòu)成
真空室構(gòu)成
雙層水冷結(jié)構(gòu)，立式圓形、立式D形、立式矩形、臥式矩形,前后開門，真空尺寸,根據(jù)工件尺寸和數(shù)量確定。
熱絲
熱絲材料：鉭絲、或鎢絲
熱絲溫度：1800℃～2500℃ 可調(diào)
熱絲不塌腰（解決了熱絲長時(shí)間加熱塌腰問題）。
樣品臺(tái)
可水冷、可加偏壓、可旋轉(zhuǎn)、可升降，由調(diào)速電機(jī)控制，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)升降，（熱絲與襯底間距在5～100mm范圍內(nèi)可調(diào)），要求升降平穩(wěn),上下波動(dòng)不大于0.1mm。
工作氣路（CVD）
工作氣路根據(jù)用戶工藝要求配置：
下面氣體配置是某一用戶的配置案例。
H2（5000sccm，濃度100%）
CH4（200sccm，濃度100%）
B2H6（50sccm，H2濃度99%）
Ar（1000sccm，濃度100%）
真空獲得及測量系統(tǒng)
控制系統(tǒng)及軟件
獲取報(bào)價(jià)
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