鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司，由有多年實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的工程師團(tuán)隊(duì)共同發(fā)起創(chuàng)建。公司立足于技術(shù)前沿與市場前沿的交叉點(diǎn)，尋求創(chuàng)新引領(lǐng)與可持續(xù)發(fā)展，解決產(chǎn)業(yè)的痛點(diǎn)和國產(chǎn)化難題，爭取產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控。

　　公司核心業(yè)務(wù)是半導(dǎo)體材料、工藝和裝備的研發(fā)設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造。
　　公司人才團(tuán)隊(duì)知識(shí)結(jié)構(gòu)完整，有以大學(xué)教授和博士為核心的高水平材料研究和工藝研究團(tuán)隊(duì)；還有來自工業(yè)界的高級(jí)裝備設(shè)計(jì)師團(tuán)隊(duì)，他們具有20多年的半導(dǎo)體材料研究、外延技術(shù)研究和半導(dǎo)體薄膜制備成套裝備設(shè)計(jì)和生產(chǎn)制造經(jīng)驗(yàn)。

　　公司具備先進(jìn)的半導(dǎo)體研發(fā)設(shè)備平臺(tái)和檢測設(shè)備平臺(tái)，可以在高起點(diǎn)開展科研工作。公司已具有2500多平米潔凈廠房，可開展半導(dǎo)體材料和組件的中試、生產(chǎn)，同時(shí)可進(jìn)行半導(dǎo)體裝備的生產(chǎn)和調(diào)試。
　　半導(dǎo)體材料事業(yè)部、半導(dǎo)體器件事業(yè)部、半導(dǎo)體裝備事業(yè)部。
　　團(tuán)隊(duì)部分業(yè)績分布
　　完全自主設(shè)計(jì)制造的分子束外延（MBE）設(shè)備，包括自主設(shè)計(jì)制造的MBE超高真空外延生長室、工藝控制系統(tǒng)與軟件、高溫束源爐、高溫樣品臺(tái)、Rheed原位實(shí)時(shí)在線監(jiān)控儀（反射高能電子衍射儀）、直線型電子槍、膜厚儀（可計(jì)量外延生長的分子層數(shù)）、射頻源等關(guān)鍵部件。真空度達(dá)到2×10-8Pa。典型用戶：浙江大學(xué)光學(xué)儀器國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室。
　　采用磁控濺射與等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD技術(shù)，設(shè)計(jì)制造了團(tuán)簇式太陽能薄膜電池中試線。典型用戶：中科院電工所。
　　采用熱絲法，設(shè)計(jì)制造了金剛石薄膜制備設(shè)備，應(yīng)用于金剛石薄膜材料的研究與生產(chǎn)。典型用戶：中國科學(xué)院金屬研究所。
　　設(shè)計(jì)制造了全自動(dòng)磁控濺射設(shè)備，可加水平磁場和垂直磁場，自行設(shè)計(jì)的真空機(jī)械手傳遞基片。應(yīng)用于高密度磁記錄材料與器件的研究和中試。使用單位：武漢國家光電實(shí)驗(yàn)室。
　　設(shè)計(jì)制造了科研型的磁控濺射儀，典型用戶：南方科技大學(xué)、南京大學(xué)、浙江大學(xué)、南開大學(xué)、武漢理工大學(xué)。
　　設(shè)計(jì)制造了磁控濺射生產(chǎn)型設(shè)備，用于半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)，典型用戶：武漢光迅科技有限公司、深圳彩煌熱電技術(shù)公司。
　　設(shè)計(jì)制造了OLED有機(jī)半導(dǎo)體發(fā)光材料及器件的研究和中試成套裝備。典型用戶：香港城市大學(xué)先進(jìn)材料實(shí)驗(yàn)室、吉林奧來德光電材料股份有限公司。
　　設(shè)計(jì)制造了電子束鍍膜機(jī)。典型用戶：武漢理工大學(xué)、南方科技大學(xué)、中國計(jì)量大學(xué)。
　　設(shè)計(jì)制造了高真空電阻熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)、高真空電極制備鍍膜機(jī)。典型用戶：蘇州大學(xué)、北京大學(xué)。
　　公司已投放市場的部分半導(dǎo)體設(shè)備
　　物理氣相沉積（PVD）系列
　　磁控濺射、電子束、熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)，激光沉積設(shè)備PLD
　　化學(xué)氣相沉積（CVD）系列
　　MOCVD、PECVD、LPCVD、微波等離子體CVD、熱絲CVD、原子層沉積設(shè)備ALD
　　超高真空系列
　　分子束外延系統(tǒng)（MBE）、激光分子束外延系統(tǒng)（LMBE）
　　成套設(shè)備
　　團(tuán)簇式太陽能薄膜電池中試線、OLED中試設(shè)備（G1、G2.5）
　　其它
　　金剛石薄膜制備設(shè)備、合金退火爐、硬質(zhì)涂層設(shè)備、磁性薄膜設(shè)備、電極制備設(shè)備
　　真空鍍膜機(jī)專用電源/真空鍍膜機(jī)控制系統(tǒng)及軟件
　　直流濺射電源、RF射頻濺射電源、高精度熱蒸發(fā)電源、高能直流脈沖電源（中頻可調(diào)脈寬）
　　控制系統(tǒng)及軟件
　　團(tuán)隊(duì)在第三代半導(dǎo)體裝備及工藝方面的技術(shù)積累
　　2001年 與南昌大學(xué)合作
　　設(shè)計(jì)了中試型的全自動(dòng)化監(jiān)控的MOCVD，用于外延GaN和ZnO。
　　2005年 與浙江大學(xué)光學(xué)儀器國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室合作
　　設(shè)計(jì)制造了第一臺(tái)完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的分子束外延設(shè)備，用于外延光電半導(dǎo)體材料。
　　2006年 與中國科技大學(xué)合作
　　設(shè)計(jì)設(shè)計(jì)超高溫CVD 和MBE。
　　用于4H晶型SiC外延生長。
　　2007年 與蘭州大學(xué)物理學(xué)院合作
　　設(shè)計(jì)制造了光學(xué)級(jí)金剛石生長設(shè)備（采用熱激發(fā)技術(shù)和CVD技術(shù)）。
　　2015年 中科院金屬研究所沈陽材料科學(xué)國家（聯(lián)合）實(shí)驗(yàn)室合作
　　制造了金剛石外延設(shè)備，制備了金剛石電極、微米晶和納米晶金剛石薄膜、導(dǎo)電金剛石薄膜。
　　2017年
　　-優(yōu)化Rheed設(shè)計(jì)，開始生產(chǎn)型MBE設(shè)計(jì)。
　　-開始研制PVD方法外延GaN的工藝和裝備，目前正在進(jìn)行設(shè)備工藝驗(yàn)證。
　　2019年
　　設(shè)計(jì)制造了大型熱絲CVD金剛石薄膜的生產(chǎn)設(shè)備。
　　產(chǎn)品介紹
　　熱絲CVD金剛石設(shè)備

實(shí)驗(yàn)型 熱絲CVD金剛石設(shè)備

　　研發(fā)設(shè)計(jì)制造了熱絲CVD金剛石設(shè)備，分為實(shí)驗(yàn)型設(shè)備和生產(chǎn)型設(shè)備兩類。
　　設(shè)備主要用于微米晶和納米晶金剛石薄膜、導(dǎo)電金剛石薄膜、硬質(zhì)合金基金剛石涂層刀具、陶瓷軸承內(nèi)孔鍍金剛石薄膜等。例如可用于生產(chǎn)制造環(huán)保領(lǐng)域污水處理用的耐腐蝕金剛石導(dǎo)電電極。
　　可用于平面工件的金剛石薄膜制備，也可用于刀具表面或其它不規(guī)則表面的金剛石硬質(zhì)涂層制備。

單面熱絲CVD 金剛石設(shè)備

雙面熱絲CVD 金剛石設(shè)備

生產(chǎn)型 熱絲CVD金剛石設(shè)備

　　可制備金剛石面積-長1200mm*寬650mm； 可制備金剛石面積-φ650mm
　　分子束外延薄膜生長設(shè)備
　　該設(shè)備可以在某些襯底材料上實(shí)現(xiàn)外延生長工藝，實(shí)現(xiàn)分子自組裝、超晶格、量子阱、一維納米線等?？梢赃M(jìn)行第二代半導(dǎo)體和第三代半導(dǎo)體的工藝驗(yàn)證和外延片的生長制造。
　　分子束外延薄膜生長設(shè)備在薄膜外延生長時(shí)具有超高的真空環(huán)境，是在理想的環(huán)境下進(jìn)行薄膜外延生長，它可以排除在薄膜生長時(shí)的各種干擾因素，得到理想的高精度薄膜。
　　我公司設(shè)計(jì)制造的分子束外延薄膜生長實(shí)驗(yàn)設(shè)備，分實(shí)驗(yàn)型和生產(chǎn)型兩種，配置合理，結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，技術(shù)先進(jìn)，性能可靠，用途多，實(shí)用性強(qiáng)，價(jià)格相對(duì)較低，可供各大學(xué)的實(shí)驗(yàn)室及科研機(jī)構(gòu)作為分子束外延方面的教學(xué)實(shí)驗(yàn)、科學(xué)研究及工藝實(shí)驗(yàn)之用。生產(chǎn)型MBE可用于小批量外延片的制備。

　　高真空磁控濺射儀

　　高真空磁控濺射儀是用磁控濺射的方法，制備金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷、介質(zhì)復(fù)合膜及其它化學(xué)反應(yīng)膜等；適用于鍍制各種單層膜、多層膜、摻雜膜及合金膜；可鍍制磁性材料和非磁性材料。
　　設(shè)備關(guān)鍵技術(shù)特點(diǎn):
　　秉承設(shè)備為工藝實(shí)現(xiàn)提供裝備設(shè)計(jì)理念，我們做了如下設(shè)計(jì)和工程實(shí)現(xiàn)，實(shí)際運(yùn)行效果良好，為用戶的專用工藝實(shí)現(xiàn)提供了精準(zhǔn)的工藝設(shè)備方案。
　　距離可調(diào):
　　基片和靶材之間的距離可調(diào)整，以適應(yīng)不同靶材的成膜工藝的距離要求。
　　角度可調(diào):
　　磁控濺射靶頭可調(diào)角度，以便針對(duì)不同尺寸基片的均勻性，做精準(zhǔn)調(diào)控。
　　高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)
　　高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)是在高真空條件下，采用電子束轟擊材料加熱蒸發(fā)的方法，在襯底上鍍制各種金屬、氧化物、導(dǎo)電薄膜、光學(xué)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬膜等；可鍍制混合物單層膜、多層膜或摻雜膜；可鍍各種高熔點(diǎn)材料。

　　可用于生產(chǎn)、科學(xué)實(shí)驗(yàn)及教學(xué)，可根據(jù)用戶要求專門訂制。

　　可根據(jù)用戶使用要求，選配石英晶體膜厚自動(dòng)控制及光學(xué)膜厚自動(dòng)控制兩種方式, 通過PLC 和工控機(jī)聯(lián)合實(shí)現(xiàn)對(duì)整個(gè)鍍膜過程的全程自動(dòng)控制, 包括真空系統(tǒng)、烘烤系統(tǒng)、蒸發(fā)過程和膜層厚度的監(jiān)控功能等，從而提高了工作效率和保證產(chǎn)品質(zhì)量的一致性和穩(wěn)定性。

　　誠摯邀請(qǐng)
　　本司將參加2022年4月26-28日在重慶國際博覽中心舉辦的第四屆全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)（重慶）博覽會(huì)，此次展會(huì)以“集智創(chuàng)芯、共塑未來”為主題，展示面積達(dá)25000㎡，參展企業(yè)預(yù)計(jì)達(dá)350家，全球半導(dǎo)體、集成電路、芯片及研發(fā)設(shè)計(jì)等企業(yè)參展，集中展示新產(chǎn)品、新技術(shù)，邀請(qǐng)18000名專業(yè)觀眾參觀，同期還將舉辦“第四屆未來半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展大會(huì)”論壇活動(dòng)，組委會(huì)將盡全力打造最專業(yè)的上下游交流合作平臺(tái)。
　　鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司誠邀您參加本次展會(huì)，屆時(shí)共同分享半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新產(chǎn)品、技術(shù)及解決方案，充分彰顯企業(yè)高端品牌形象！
　　時(shí)間：4.26-4.28
　　地點(diǎn)：重慶國際博覽中心  
　　展位號(hào)：A91