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全球MBE市場(chǎng)穩(wěn)步增長,中國鵬城半導(dǎo)體突破技術(shù)壟斷


發(fā)布時(shí)間:

2025-05-23

2021年,全球分子束外延(MBE)系統(tǒng)市場(chǎng)規(guī)模約為5.5億元人民幣,展望至2028年,這一數(shù)字預(yù)計(jì)將攀升至9.6億元,意味著在2022至2028年間,該市場(chǎng)將以8.3%的年復(fù)合增長率持續(xù)壯大。分子束外延系統(tǒng)在半導(dǎo)體及基礎(chǔ)材料研究領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用,其消費(fèi)主力軍包括歐洲、美國、日本以及中國等工業(yè)體系完備的國家,它們共同占據(jù)了全球超過八成的市場(chǎng)份額。

01 全球MBE市場(chǎng)概況

2021年,全球分子束外延(MBE)系統(tǒng)市場(chǎng)規(guī)模約為5.5億元人民幣,展望至2028年,這一數(shù)字預(yù)計(jì)將攀升至9.6億元,意味著在2022至2028年間,該市場(chǎng)將以8.3%的年復(fù)合增長率持續(xù)壯大。分子束外延系統(tǒng)在半導(dǎo)體及基礎(chǔ)材料研究領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用,其消費(fèi)主力軍包括歐洲、美國、日本以及中國等工業(yè)體系完備的國家,它們共同占據(jù)了全球超過八成的市場(chǎng)份額。

追溯分子束外延(Molecular Beam Epitaxy)技術(shù)的歷史,我們發(fā)現(xiàn)它源于真空沉積法,并基于1968年阿爾瑟對(duì)鎵砷原子與GaAs表面相互作用反應(yīng)動(dòng)力學(xué)的深入研究。該技術(shù)由美國貝爾實(shí)驗(yàn)室的卓以和在70年代初進(jìn)一步完善并推廣,為超薄層微結(jié)構(gòu)材料及其相關(guān)半導(dǎo)體科學(xué)技術(shù)的發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。作為一種靈活的外延薄膜技術(shù),分子束外延允許在超高真空環(huán)境下,通過將熱蒸發(fā)的原子或分子束投射到特定取向和溫度的清潔襯底上,從而生長出高質(zhì)量薄膜材料或滿足特定結(jié)構(gòu)需求。

展望未來,分子束外延系統(tǒng)市場(chǎng)有望繼續(xù)保持穩(wěn)健增長。作為半導(dǎo)體和光伏新材料及工藝研究的核心設(shè)備,全球分子束外延系統(tǒng)市場(chǎng)規(guī)模在2020年已達(dá)到8148萬美元,并預(yù)計(jì)在2026年前達(dá)到1.11億美元,年復(fù)合增長率達(dá)5.26%。這一趨勢(shì)預(yù)示著分子束外延系統(tǒng)市場(chǎng)在全球范圍內(nèi)的持續(xù)繁榮。

02 中國市場(chǎng)及企業(yè)表現(xiàn)

歐洲目前是全球最大的分子束外延系統(tǒng)生產(chǎn)地區(qū),其產(chǎn)品廣泛出口至全球多個(gè)國家,而中國則主要依賴進(jìn)口。然而,中國民族企業(yè)鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司(簡稱:鵬城半導(dǎo)體)已經(jīng)推出了《分子束外延(MBE)系統(tǒng)》解決方案,致力于打破這一進(jìn)口依賴。鵬城半導(dǎo)體的分子束外延薄膜生長設(shè)備能在特定襯底材料上實(shí)現(xiàn)外延生長工藝,包括分子自組裝、超晶格、量子阱以及一維納米線等的制造。此外,它還可用于第二代和第三代半導(dǎo)體的工藝驗(yàn)證及外延片生產(chǎn)。

鵬城半導(dǎo)體的設(shè)備支持半導(dǎo)體材料的高質(zhì)量外延生長,功能全面,并在技術(shù)上達(dá)到國際領(lǐng)先水平。其MBE系統(tǒng)不僅功能全面,還具備顯著的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。它能夠成功實(shí)現(xiàn)第二代半導(dǎo)體材料,例如砷化鎵,以及第三代半導(dǎo)體材料,如碳化硅和氮化鎵的外延生長。這一突破性的成就,進(jìn)一步鞏固了我們?cè)诎雽?dǎo)體領(lǐng)域的技術(shù)領(lǐng)先地位。

03 設(shè)備組成與技術(shù)指標(biāo)

MBE設(shè)備包含多個(gè)室體和關(guān)鍵組件,均經(jīng)過自主研發(fā)和設(shè)計(jì),以實(shí)現(xiàn)高性能。在2005年,本項(xiàng)目在國內(nèi)率先完成了成套MBE的全國產(chǎn)化研發(fā)設(shè)計(jì)和制造,實(shí)現(xiàn)了自主可控。鵬城半導(dǎo)體自主設(shè)計(jì)了MBE超高真空外延生長室、工藝控制系統(tǒng)與軟件、RHEED原位實(shí)時(shí)在線監(jiān)控儀、直線型電子槍、高溫束源爐、束源爐電源、高溫樣品臺(tái)以及膜厚儀等核心部件。這些創(chuàng)新設(shè)計(jì)使得鵬城半導(dǎo)體的MBE系統(tǒng)在性能和精度上達(dá)到了國際領(lǐng)先水平,有效打破了國外產(chǎn)品的壟斷地位。

設(shè)備組成:

  • 進(jìn)樣室:用于樣品的進(jìn)出倉,并配備有多片樣片儲(chǔ)存功能,可容納六片基片。
  • 預(yù)處理室:用于樣品在進(jìn)入外延室前的真空等離子剝離式清洗、真空高溫除氣及其他前期工藝處理。
  • 外延室:一個(gè)超高真空潔凈真空室,專門用于實(shí)現(xiàn)分子束外延工藝。

各個(gè)室體的極限真空和溫度控制達(dá)到國際先進(jìn)水準(zhǔn),配置靈活,適用于多樣化工藝。其主要技術(shù)指標(biāo)包括:

  • 進(jìn)樣室:極限真空達(dá)到5.0×10^-5Pa,可裝載6片尺寸為φ2英寸至φ4英寸的樣品。
  • 預(yù)處理室:極限真空為5×10^-7Pa,樣品臺(tái)加熱溫度范圍從室溫到850℃±1℃。
  • 外延室:極限真空達(dá)到2.0×10^-8Pa,樣品臺(tái)加熱溫度范圍為室溫至1200℃±1℃。

04 產(chǎn)品與應(yīng)用實(shí)例

各組件設(shè)計(jì)滿足高真空和高溫要求,結(jié)合先進(jìn)技術(shù),為精確的外延生產(chǎn)提供支持。該MBE系統(tǒng)不僅功能全面,還具備顯著的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。它能夠成功實(shí)現(xiàn)多類半導(dǎo)體材料的外延生長。

鵬城半導(dǎo)體的設(shè)備已成功用于生產(chǎn)特定新材料,展現(xiàn)技術(shù)潛力,并將繼續(xù)推動(dòng)技術(shù)創(chuàng)新。設(shè)備采用了鵬城半導(dǎo)體自主研發(fā)的分子束外延設(shè)備,成功生長出Bi2-xSbxTe3材料。鵬城半導(dǎo)體在分子束外延技術(shù)領(lǐng)域持續(xù)深耕,不斷突破核心難題。

展望未來,鵬城半導(dǎo)體將緊密關(guān)注市場(chǎng)動(dòng)態(tài),積極培養(yǎng)對(duì)終端應(yīng)用和客戶需求的深刻洞察力,以增強(qiáng)與客戶的緊密聯(lián)系。鵬城半導(dǎo)體的目標(biāo)是為客戶提供獨(dú)具特色的增值服務(wù),助力其業(yè)務(wù)發(fā)展。同時(shí),鵬城半導(dǎo)體將懷揣感恩之心,不斷自我革新,力求在半導(dǎo)體外延技術(shù)的最前沿取得新的更大成就。

新聞中心

鵬城半導(dǎo)體亮相聚焦“卡脖子”和“前沿必爭”領(lǐng)域-2025中國材料大會(huì)

“中國材料大會(huì)2025”:作為新材料領(lǐng)域國家級(jí)學(xué)術(shù)品牌大會(huì),面向國家重大需求,匯聚最權(quán)威的專家學(xué)者和國家級(jí)戰(zhàn)略科技力量,聚焦“卡脖子”領(lǐng)域和“前沿必爭”領(lǐng)域的關(guān)鍵突破,推動(dòng)高端學(xué)術(shù)研討,解決行業(yè)發(fā)展中重大共性問題和新興產(chǎn)業(yè)推進(jìn)中重大難題,搶占全球新材料發(fā)展的學(xué)術(shù)制高點(diǎn),形成體系化國家級(jí)戰(zhàn)略布局,為推動(dòng)我國新質(zhì)生產(chǎn)力建設(shè)打造堅(jiān)實(shí)的物質(zhì)基礎(chǔ)與保障。

全球MBE市場(chǎng)穩(wěn)步增長,中國鵬城半導(dǎo)體突破技術(shù)壟斷

2021年,全球分子束外延(MBE)系統(tǒng)市場(chǎng)規(guī)模約為5.5億元人民幣,展望至2028年,這一數(shù)字預(yù)計(jì)將攀升至9.6億元,意味著在2022至2028年間,該市場(chǎng)將以8.3%的年復(fù)合增長率持續(xù)壯大。分子束外延系統(tǒng)在半導(dǎo)體及基礎(chǔ)材料研究領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用,其消費(fèi)主力軍包括歐洲、美國、日本以及中國等工業(yè)體系完備的國家,它們共同占據(jù)了全球超過八成的市場(chǎng)份額。

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薄膜沉積設(shè)備

薄膜沉積設(shè)備分類薄膜沉積是指在硅片等襯底上沉積待處理的薄膜材料,所沉積薄膜材料主要是二氧化硅、氮化硅、多晶硅等非金屬以及銅等金屬,沉積膜可為無定形、多晶的或者單晶。

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