鵬城半導(dǎo)體亮相聚焦“卡脖子”和“前沿必爭(zhēng)”領(lǐng)域-2025中國(guó)材料大會(huì)
“中國(guó)材料大會(huì)2025”:作為新材料領(lǐng)域國(guó)家級(jí)學(xué)術(shù)品牌大會(huì),面向國(guó)家重大需求,匯聚最權(quán)威的專家學(xué)者和國(guó)家級(jí)戰(zhàn)略科技力量,聚焦“卡脖子”領(lǐng)域和“前沿必爭(zhēng)”領(lǐng)域的關(guān)鍵突破,推動(dòng)高端學(xué)術(shù)研討,解決行業(yè)發(fā)展中重大共性問(wèn)題和新興產(chǎn)業(yè)推進(jìn)中重大難題,搶占全球新材料發(fā)展的學(xué)術(shù)制高點(diǎn),形成體系化國(guó)家級(jí)戰(zhàn)略布局,為推動(dòng)我國(guó)新質(zhì)生產(chǎn)力建設(shè)打造堅(jiān)實(shí)的物質(zhì)基礎(chǔ)與保障。
“中國(guó)材料大會(huì)2025”將于7月5日至8日在福建省廈門國(guó)際會(huì)展中心舉行。

屆時(shí)鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司(以下簡(jiǎn)稱“鵬城半導(dǎo)體”)將攜前沿薄膜沉積設(shè)備及技術(shù)解決方案在C3094展臺(tái)亮相。基于納米與原子制造的PVD/CVD技術(shù),用于高質(zhì)量的薄膜制備。例如,用磁控濺射技術(shù)進(jìn)行單晶薄膜制備,將磁控濺射用于分子束外延的束流源等。

真空鍍膜技術(shù)廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)儀器、醫(yī)療器械、新能源、照明、汽車、機(jī)械設(shè)備、航天等多個(gè)領(lǐng)域。例如,在電子行業(yè)中,真空鍍膜技術(shù)用于制備半導(dǎo)體器件、微電子器件、反射鏡面、絕緣保護(hù)涂層、高溫傳感器等。此外,真空鍍膜技術(shù)還能提升基體的物理性能、化學(xué)性能和使用壽命,且對(duì)環(huán)境污染小。
鵬城半導(dǎo)體主要專注于產(chǎn)品提升,優(yōu)化迭代,提升技術(shù)門檻,深入挖掘用戶的需求,解決行業(yè)的痛點(diǎn)難點(diǎn);在產(chǎn)品原理方法分類產(chǎn)品覆蓋PVD物理氣相沉積、CVD化學(xué)氣相沉積、分子束外延薄膜生長(zhǎng)設(shè)備MBE。
鵬城半導(dǎo)體采用雙輪驅(qū)動(dòng)模式,工藝與設(shè)備相互迭代,相互促進(jìn),使設(shè)備生產(chǎn)的材料,優(yōu)化到更好的水平,提高了競(jìng)爭(zhēng)力。更具體地:⑴、將磁控濺射技術(shù)提高到超高真空級(jí)別,在超級(jí)潔凈的背景下,用PVD技術(shù),外延生長(zhǎng)氮化鎵單晶。⑵、包括但不限于解決了熱絲CVD中熱絲較多時(shí),熱絲之間容易產(chǎn)生黏連的問(wèn)題,解決了長(zhǎng)時(shí)間使用斷絲的問(wèn)題,開(kāi)發(fā)了大尺寸金剛石多晶晶圓片生長(zhǎng)工藝。
總之,鵬城半導(dǎo)體將在中國(guó)材料大會(huì)2025上展示其在“卡脖子”和“前沿必爭(zhēng)”領(lǐng)域的最新突破。我們期待與業(yè)界同仁共同交流、合作,共同推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的持續(xù)發(fā)展。

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