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為您提供高性價比真空鍍膜設(shè)備解決方案《520愛情風(fēng)暴來襲》

發(fā)布時間：

2023-03-30

真空鍍膜設(shè)備的薄膜制作過程，簡單來說就是將一種材料(薄膜材料）轉(zhuǎn)移到另一種材料(基底)的表面，形成和基底牢固結(jié)合的薄膜的過程。所以，任何的真空鍍膜薄膜制作方法都包括:源蒸發(fā)、遷移和凝聚三個重要環(huán)節(jié)。

　　真空鍍膜設(shè)備的薄膜制作過程，簡單來說就是將一種材料(薄膜材料）轉(zhuǎn)移到另一種材料(基底)的表面，形成和基底牢固結(jié)合的薄膜的過程。所以，任何的真空鍍膜薄膜制作方法都包括:源蒸發(fā)、遷移和凝聚三個重要環(huán)節(jié)。
　　一、鍍膜蒸發(fā)源
　　“源"的作用是提供鍍膜的材料（或被鍍材料中的某種組分)。通過物理或化學(xué)的方法使鍍膜材料成為氣態(tài)物質(zhì)。
　　二、遷移過程
　　遷移過程都是在氣相中進(jìn)行的，在氣態(tài)物質(zhì)遷移時，為了保證膜層的質(zhì)量，一般都是在真空或惰性氣氛中進(jìn)行，并施加電場、磁場或高頻等外界條件來進(jìn)行活化以增加到達(dá)基底上的氣態(tài)物質(zhì)的能量，提供氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)的能量，即提供氣態(tài)物質(zhì)反應(yīng)的激活能。
　　三、凝膜
　　薄膜在基底上的形成過程是一個復(fù)雜的過程，它包括:膜的形核、長大，膜與基底表面的相互作用等等。
　　近年來，真空鍍膜設(shè)備的薄膜制作還在基底上施加電場、磁場、離子束轟擊等輔助手段，其目的都是為了控制疑聚成膜的質(zhì)量和性能。根據(jù)成膜方法的基本原理,可以將其分為物理氣相沉積（PVD）、化學(xué)氣相沉積（CVD）和兼有物理和化學(xué)方法的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法等。

多功能磁控濺射儀

熱絲CVD金剛石設(shè)備

分子束外延系統(tǒng)MBE設(shè)備

電子束蒸鍍機(jī)

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD設(shè)備

高真空電阻熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)

化學(xué)氣相沉積LPCVD設(shè)備

　　--本文由真空鍍膜設(shè)備廠家鵬城半導(dǎo)體發(fā)布

新聞中心

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“中國材料大會2025”將于2025年7月5-8日在福建省廈門國際會展中心舉行，大會預(yù)計(jì)規(guī)模30000人，擬設(shè)115個國內(nèi)(際)分會，涵蓋能源材料、環(huán)境材料、先進(jìn)結(jié)構(gòu)材料、功能材料、材料設(shè)計(jì)制備與評價等5大類主題；同時開設(shè)一批特色論壇，包括青年論壇、特色新材料論壇、材料教育論壇、材料期刊論壇等，除此之外，還同期舉行國際新材料科研儀器與設(shè)備展覽會等。

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