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LPCVD 低壓化學氣相沉積設備

LPCVD低壓化學氣相沉積設備（科研型LPCVD）是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科學研究、實踐教學、小型器件制造。

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